V oblasti elektrochémie sa ako anódový materiál používa platina, ktorá má vynikajúci výkon. Najmä v procese elektrochemického vývoja anodického kyslíka v kyslom prostredí nemá platina žiadnu odolnosť proti oxidácii a elektrokatalýzu ako iné materiály. Platina sa používa ako anódový materiál v mnohých dôležitých oblastiach elektrochemickej výroby, ako je peroxid vodíka, persíran amónny atď. Zdroje platiny sú však vzácne a drahé. Aby sa znížili náklady a zachoval sa vynikajúci výkon platinových anód, boli študované materiály na platinovú anódu, aby nahradili čisté platinové elektródové produkty a dosiahli sa dobré výsledky.
Titánová anóda pokovovaná platinou je proces pokovovania na báze titánu. Na titánovom povrchu je nanesená vrstva čistého platinového povlaku. Procesný tok titánovej anódy pokovovanej platinou je nasledujúci:
Predúprava titánového plechu → elektročistenie → umývanie vodou → aktivácia → umývanie destilovanou vodou → kefovanie platina → umývanie destilovanou vodou → sušenie
Základné špecifikácie sú nasledovné:
Základný materiál: titán (Gr1, Gr2, TA1, TA2)
Tvar: sieťový, tabuľkový, rúrkový alebo prispôsobený podľa požiadaviek zákazníka
Prúdová hustota: ＜ 8000 A/m2
Výrobný proces: galvanické pokovovanie
Poťahový materiál: platina (čistota 99,99 percent)
Obsah drahých kovov: väčší alebo rovný 21,48 g/㎡
Hrúbka platinovej vrstvy: 0.3-15 μ m
Teplota: ＜ 80 stupňov
Hodnota PH: 1-12
